با افزایش پیچیدگی تراشهها و رسیدن فناوری ساخت به مرزهای بسیار باریک، صنعت نیمهرسانا اکنون بیش از هر زمان دیگری به دنبال راهکارهایی کممصرفتر و کمهزینهتر از EUV است. در همین راستا یک شرکت ژاپنی از فناوری جدیدی رونمایی کرده میتواند رقیبی کممصرف برای EUV باشد.
به گزارش وبسایت TrendForce، موسسه Dai Nippon Printing ژاپن (DNP)، اعلام کرد که توسعه فناوری لیتوگرافی نانوایمپرینت (NIL) با عرض خطوط تنها 10 نانومتر را با موفقیت به اتمام رسانده است. این فناوری که برای الگوگذاری مدارهای منطقی در کلاس 1.4 نانومتر طراحی شده، به گفته این شرکت هماکنون وارد مرحله ارزیابی مشتریان شده است.
توسعه برای سال 2027
شرکت ژاپنی DNP اعلام کرده که تولید انبوه با این فناوری برای سال 2027 هدفگذاری شده و انتظار میرود نقش مهمی در ادامه روند کوچکسازی تراشههای منطقی پیشرفته که در گوشیهای هوشمند، دیتاسنترها، حافظه NAND Flash به کار میرود، ایفا کند.
رونمایی رسمی در SEMICON Japan 2025
موسسه DNP قصد دارد این فناوری 10 نانومتری را در نمایشگاه SEMICON Japan 2025 که بهزودی در توکیو برگزار میشود، به صورت رسمی به نمایش بگذارد. این رویداد یکی از مهمترین گردهماییهای صنعت نیمهرسانا در آسیاست و بستری کلیدی برای معرفی فناوریهای نسل بعدی محسوب میشود.
جایگزینی کمهزینهتر و کممصرفتر از EUV
با افزایش مداوم توان پردازشی دستگاهها، تقاضا برای Nodeهای پیشرفتهتر نیمهرسانای منطقی بهطور پیوسته در حال رشد است و همین موضوع باعث شده تا توسعه فنی لیتوگرافی EUV سرعت بیشتری بگیرد.
با این حال، EUV نیازمند سرمایهگذاری عظیم برای ساخت FABها و فرایندهای لیتوگرافی است و در عین حال با چالشهایی مانند مصرف انرژی بسیار بالا و فشارهای زیستمحیطی همراه است.
در چنین شرایطی، DNP از سال 2003 بهطور مداوم روی توسعه فناوری NanoImprint کار کرده است. این روش با ایمپرینت مستقیم الگوهای مدار روی مواد زیرلایه، مسیری جایگزین برای کاهش مصرف انرژی در لیتوگرافی و بهینهسازی ساختار هزینه در برخی مراحل فرایند تولید تراشه ارائه میدهد.
فناوری جدید NIL با عرض خطوط 10 نانومتر، میتواند در برخی مراحل خاص الگوگذاری، به صورت جزئی جایگزین لیتوگرافی EUV شود. این موضوع به ویژه برای تولیدکنندگانی که هنوز از تجهیزات EUV استفاده نکردهاند، مسیری تازه برای ورود به فرآیندهای منطقی پیشرفته فراهم میکند.
علاوه بر این، تولید فوقریز نیمهرسانا بر پایه این فناوری، میتواند مصرف انرژی لیتوگرافی را تا حدود یکدهم روشهای رایج فعلی کاهش دهد؛ عددی که در مقیاس صنعتی بسیار قابلتوجه است.
همکاری با سازندگان و برنامه توسعه
در حال حاضر DNP در حال گفتوگو با تولیدکنندگان نیمهرسانا بوده و برنامههای ارزیابی فناوری NIL جدید را آغاز کرده است.
در همین رابطه بخوانید:
– خیز بلند ژاپن برای شکار TSMC؛ کارخانه ۱.۴ نانومتری Rapidus در راه است
– کاربرد جدید لیتوگرافی EUV: استفاده از تکنولوژی ساخت پردازنده برای نجات جان انسانها
در نهایت این شرکت اعلام کرده که به توسعه بیشتر فناوری نانوایمپرینت ادامه خواهد داد و ظرفیت تولید خود را همراستا با رشد آینده بازار افزایش میدهد. به گفته DNP، قرار است این فناوری بهعنوان یکی از محرکهای اصلی رشد بخش نیمهرسانای خود در سالهای آینده تثبیت شود.
